8486204100 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机
| 商品编码 | 84862041.00 | ||||
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | ||||
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | ||||
| 英文名称 | Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis | ||||
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
| 84862041.00 | 蚀刻机 | 型号:Centura 5200 |
| 84862041.00 | 氧化物蚀刻机 | UNITY Ver 2 85DI |
| 84862041.00 | 干式光阻去除机/Mattson牌 | ASPEN-II ICP(Used tool) |
| 84862041.00 | 等离子体刻蚀机 | M42200-2/UM |
| 84862041.00 | 深干法硅微结构离子刻蚀机 | SYSTEM100ICP180 |
| 84862041.00 | 干法蚀刻机 | NE-550 |
| 84862041.00 | 气浮导轨 | GFM-RS-1000,CKD |
| 84862041.00 | 水平调整器 | KC-275-B-2/TAKIGEN |
| 84862041.00 | 水平调整支撑 | 302-VRC/610/AIRLOC |
| 84862041.00 | 校直块 | TD42-DN21042,TORAY ENGINEERING |
| 84862041.00 | 等离子清洗机 | VSP-88L |
| 84862041.00 | 电浆清洗机 | Plasmax-800C |
| 84862041.00 | 等离子刻蚀机(志圣牌) | PRS 用途:用于硅片腐蚀,形成PN节正负级导通状态 |
| 84862041.00 | 等离子刻蚀机 | 用于太阳能电池片生产;;C SUN志圣工业牌;PRS |
| 84862041.00 | 深反刻蚀机 | 实验室用;备;Oxford Instruments;System100ICP180 |
| 84862041.00 | 反应离子刻蚀制绒机 | 备|备|备|Jusung RIE SOULTERA-R型 |
| 84862041.00 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | |
| 84862041.00 | 等离子干法刻蚀机 | 去除及灰化圆片表面的残渣|去除及灰化圆片表面的残渣|P |
| 84862041.00 | 干式刻蚀机 | 用于LED生产中对蓝宝石晶片衬底的图形化刻蚀|在真空反 |
| 84862041.00 | 等离子干法可刻蚀机 | 去除及灰化圆片表面的残渣|去除及灰化圆片表面的残渣|P |