8486204100 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机
| 商品编码 | 84862041.00 | ||||
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | ||||
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | ||||
| 英文名称 | Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis | ||||
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
| 84862041.00 | 等离子干法刻蚀机 | 在晶圆加工工艺中 对晶圆表面径向处理 增加不同介质层之 |
| 84862041.00 | 感应耦合等离子刻蚀机(不含外 | PlasmaPro System100ICP180 |
| 84862041.00 | 干式蚀刻机 | (制作半导体专用) |
| 84862041.00 | 刻蚀机 | (旧)1994年(制作半导体专用) |
| 84862041.00 | 电浆处理设备 | IPC-1000,LINCO牌应用真空电浆技术利用气体离子化 |
| 84862041.00 | 干法蚀刻设备 | 型号:FLEX 45 DD |
| 84862041.00 | 干式光阻去除机 | PEP IRIDIA(Novellus牌) |
| 84862041.00 | 干式蚀刻机 | system100-ICP380 |
| 84862041.00 | 金属蚀刻机/LAM牌 | Alliance TCP9608PTX 2ch |
| 84862041.00 | 多晶硅蚀刻机/AMATC牌/用于晶圆生产蚀刻工艺 | Centura 5200 Poly 8 inch |
| 84862041.00 | IC刻蚀机 | 型号P5000,旧设备 |
| 84862041.00 | 离子刻蚀微调机 | SFE-6430C |
| 84862041.00 | 金属蚀刻机 | TE-8500S ESC |
| 84862041.00 | 干法蚀刻装置 | 490利用等离子蚀刻 |
| 84862041.00 | 等离子体干法刻蚀机 | 2300型 LAM牌 |
| 84862041.00 | 多晶硅蚀刻机 | TCP-9408SE/旧设备 |
| 84862041.00 | 等离子干法刻蚀机 | EMAX CENTURA AP APPLIED牌 |
| 84862041.00 | 深槽刻蚀机/LAM | PM |
| 84862041.00 | 干法刻蚀机 | 型号TCP9600SE |
| 84862041.00 | 微调机 | W-5910B |