8486202100 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
| 商品编码 | 84862021.00 | ||||
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 | ||||
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) | ||||
| 英文名称 | Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis | ||||
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
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| 84862021.00 | 化学气相沉积设备 | CONCEPT ONE |
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上一条申报实例：84862010.00-氧化、扩散、退火及其他热处理设备