您查询的相关hs编码 15 条,您的查询关键词 集成电路
| HS编码 | 品名 | 实例汇总 | 申报要素·退税 | 编码对比 |
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| 32099020.20 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
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| 32082010.30 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
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| 32091000.20 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
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| 32082020.20 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
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| 84818039.30 (增) | 专用或主要用于半导体器件、集成电路或平板显示器制造设备用的气体流量阀(流量控制范围：满量程的2%-100%)
(专用或主要用于半导体器件、集成电路或平板显示器制造设备用的气体流量阀(流量控制范围：满量程的2%-100%)) [Gas flow valves for semiconductor devices, integrated circuit, or flat panel display manufacturing equipment (flow control range: 2%-100% of full scale)] |
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| 32099010.20 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
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| 84135020.50 (增) | 集成电路制造用高精度光刻胶泵
(集成电路制造用高精度光刻胶泵) [High-precision photoresist pump for integrated circuit manufacturing] |
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| 32089090.22 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的聚酰亚胺原液和聚酰亚胺树脂溶液：挥发性有机物含量＞700g/L，粘度（25℃）为2500-3000mPa·s
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的聚酰亚胺原液和聚酰亚胺树脂溶液：挥发性有机物含量＞700g/L，粘度（25℃）为2500-3000mPa·s) [Polyimide precursor solution and polyimide resin solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, viscosity (25°C) 2500-3000mPa·s] |
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| 32089090.21 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
0条 | 查看详情 | 对比-32089090.22 |
| 32081000.20 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
0条 | 查看详情 | 对比-32089090.21 |
| 32099090.21 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1) [Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1] |
0条 | 查看详情 | 对比-32081000.20 |
| 32099090.22 (增) | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的旋涂玻璃：挥发性有机物含量＞700g/L，密度为0.8-0.9g/cm3
(同时满足以下指标的用于集成电路生产的旋涂玻璃：挥发性有机物含量＞700g/L，密度为0.8-0.9g/cm3) [Spin-coating glass used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, density 0.8-0.9g/cm3] |
0条 | 查看详情 | 对比-32099090.21 |
| 90308200.00 | 测试或检验半导体晶圆或器件（包括集成电路）用的仪器
(测试或检验半导体晶圆或器件（包括集成电路）用的仪器) [Other instruments and apparatus For measuring or checking semiconductor wafers or devices] |
476条 | 查看详情 | 对比-32099090.22 |
| 84862090.00 | 其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
(其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置) [Other machines and apparatus for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] |
274条 | 查看详情 | 对比-90308200.00 |
| 84864039.00 | 其他用于升降、装卸、搬运集成电路等的设备
(其他用于升降、装卸、搬运集成电路等的设备升降、装卸、搬运单晶柱、晶圆、半导体器件、集成电路和平板显示器的装置) [Other machines for lifting, handling, loading or unloading of electronic integrated circuits (apparatus used for lifting, handling, loading or unloading of boules, wafers, semiconductor devices, electronic integrated circuits and flat panel displays)] |
228条 | 查看详情 | 对比-84862090.00 |
