8486104000 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP)
| 商品编码 | 84861040.00 | ||||
| 商品名称 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) | ||||
| 商品描述 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) | ||||
| 英文名称 | Chemical mechanical polishers(CMP) for the manufacture of boules or wafers | ||||
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
| 84861040.00 | 抛光机 | (旧)(48BSW385901) |
| 84861040.00 | 化学机械抛光设备/APPLIED/有效 | (SYSREFLEXIONLK) |
| 84861040.00 | 抛光机 | (旧)1996年(制作晶圆专用) |
| 84861040.00 | 单面抛光机/SILTEK/CMP抛光 | 3800/晶圆片表面抛光/ |
| 84861040.00 | 硅片制样系统 | WSPS3 WITHOUT MINI-ENVIROMENT |
| 84861040.00 | 半导体抛光机 | TRIBO CMP MACHINE SERIAL |
| 84861040.00 | 化学机械研磨机 | 型号:Mirra 3400 Ontrack Clean |
| 84861040.00 | 晶圆抛光机 | POLISHING |
| 84861040.00 | 化学机械抛光研磨机 | 型号:FREX 200 |
| 84861040.00 | 单面抛光机 | 用于制造LED衬底;单面抛光;SPEEDFAM;36GPAW |
| 84861040.00 | 铜盘抛光机 | 用于制造LED衬底;铜盘抛光;SPEEDFAM;36DPAW |
| 84861040.00 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) | |
| 84861040.00 | 抛光机 | 抛光晶片用,使晶片表面光滑圆整|抛光晶 |
| 84861040.00 | Gnad61 化学机械抛光设备 | 用于抛光晶圆材料的表面|去除晶圆材料的厚度,提高晶圆材 |
上一条申报实例：84861030.00-制造单晶柱或晶圆用的切割设备
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