3208201030 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1
| 商品编码 | 32082010.30 (增) | ||||
| 商品名称 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | ||||
| 商品描述 | 同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为1-2.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为0-1 | ||||
| 英文名称 | Antireflection film-forming solution used in integrated circuit production meeting the following criteria: volatile organic content > 700g/L, reflectance (N) 1-2.1, and absorption index (K) (248nm or 193nm wavelength test) 0-1 | ||||
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
